ksiazki24h.pl
wprowadź własne kryteria wyszukiwania książek: (jak szukać?)
Twój koszyk:   0 zł   zamówienie wysyłkowe >>>
Strona główna > opis książki

WYBRANE TECHNIKI WYTWARZANIA NANOMATERIAŁÓW


KOPIA A.

wydawnictwo: AGH , rok wydania 2021, wydanie I

cena netto: 45.00 Twoja cena  42,75 zł + 5% vat - dodaj do koszyka

Wybrane techniki wytwarzania nanomateriałów


Dzięki dotychczasowym osiągnięciom nanotechnologii w ostatnich latach dokonał się burzliwy rozwój elektroniki, automatyki i informatyki.

Monografia jest odpowiedzią na zainteresowanie nanotechnologiami i nanomateriałami jako tworzywami o niezwykłych właściwościach wynikających z ich budowy projektowanej i kontrolowanej na poziomie nanometrycznym.

W pracy przedstawiono podstawowe definicje nanomateriałów, sposoby ich klasyfikacji zgodnie z kryteriami redukcji wymiarów charakterystycznych oraz omówiono wybrane techniki wytwarzania nanomateriałów, a także przemiany zachodzące w materiałach, prowadzące do otrzymania struktury nanometrycznej.

Podział prezentowanych metod opiera się na rozróżnieniu dwóch głównych koncepcji dotyczących sposobów otrzymywania nanomateriałów - przez rozdrabnianie (metody top-down) oraz przez budowanie od podstaw (metody bottom-up). W pierwszej grupie szczegółowo omówione są metody, takie jak m.in.: mechaniczna synteza, reaktywne mielenie, metoda HDDR (nawodorowanie stopu i desorpcja wodoru ze stopu), litografia i fotolitografia, duże odkształcenie plastyczne oraz odkształcenie laserowe. W drugiej grupie scharakteryzowano metody: zol-żel, chemiczne metody otrzymywania nanocząstek, osadzanie warstw atomowych (ALD), chemiczne (CVD) i fizyczne (PVD) osadzanie z fazy gazowej, rozpylanie z użyciem wiązki elektronów, rozpylanie magnetronowe, osadzanie wspomagane wiązką jonów, osadzanie z wykorzystaniem promieniowania laserowego, osadzanie z wykorzystaniem wiązki elektronów, nanoelektroosadzanie, techniki wzrostu epitaksjalnego oraz techniki jonowe.
Publikację zamyka rozdział prezentujący zagrożenia dla życia i zdrowia człowieka związane z wytwarzaniem nanomateriałów, przebywaniem człowieka w środowisku rozpylonych nanomateriałów oraz stosowaniem gotowych wyrobów wyprodukowanych na bazie nanomateriałów. Informacje uzupełniają dane pochodzące z unijnych raportów dotyczących takich zagrożeń oraz mapy drogowe odnoszące się do mechanizmów powodujących zagrożenia.

Monografia jest przeznaczona dla studentów i doktorantów specjalności: inżynieria materiałowa, fizyka z inżynierią materiałową, chemia fizyczna oraz fizyka ciała stałego.

Streszczenie   5
Summary . 6
Przedmowa . 7

1. Wprowadzenie  9
1.1. Definicje  9
1.2. Budowa nanomateriałów  13

2. Podział metod wytwarzania nanomateriałów  15

3. Procesy top-down stosowane do produkcji nanomateriałów  17
3.1. Mechaniczna synteza . 17
3.2. Reaktywne mielenie  26
3.3. Metoda HDDR  30
3.4. Litografia  32
3.5. Metody dużego odkształcenia plastycznego – Severe Plastic Deformation (SPD)  41
3.5.1. Przeciskanie przez kanał kątowy – Equal Chanel Angular Pressing (ECAP) 42
3.5.2. Wyciskanie hydrostatyczne – Hydrostatic Extrusion (HE)  46
3.5.3. Metoda skręcania pod wysokim ciśnieniem – High Pressure Torsion (HPT)  48
3.5.4. Cykliczne walcowanie materiału wielowarstwowego – Accumulative Roll Bonding (ARB)  50
3.5.5. Wyciskanie przez skręconą matrycę – Twist Extrusion (TE)  52
3.6. Proces laserowego odkształcania – Laser Shot Peening (LSP)  54

4. Procesy bottom-up. 58
4.1. Metoda zol-żel 58
4.2. Chemiczne metody otrzymywania nanocząstek  66
4.2.1. Redukcja w roztworze . 67
4.2.2. Redukcja w mikroemulsji  69
4.3. Metoda osadzania warstw atomowych – Atomic Layer Deposition (ALD)  73
4.4. Metoda chemicznego osadzania powłok z fazy gazowej – Chemical Vapour Deposition (CVD) . 75
4.5. Metoda fizycznego osadzania powłok z fazy gazowej – Physical Vapour Deposition (PVD)  81
4.5.1. Rozpylanie z użyciem wiązki elektronów – Electron Beam Physical Vapour Deposition (EB-PVD). 85
4.5.2. Rozpylanie magnetronowe . 87
4.5.3. Osadzanie powłok wspomagane wiązką jonów – Ion Beam Sputter Deposition (IBSD) . 91
4.5.4. Osadzanie powłok laserem impulsowym – Pulsed Laser Deposition (PLD)  92
4.5.5. Osadzanie powłok impulsową wiązką elektronów – Pulsed Electron Deposition (PED) . 101
4.6. Nanoelektroosadzanie  105
4.7. Techniki wzrostu epitaksjalnego  112
4.7.1. Epitaksjalny wzrost cienkich warstw z wiązek molekularnych – Molecular Beam Epitaxy (MBE) . 113
4.7.2. Epitaksjalny wzrost cienkich warstw z fazy gazowej – Vapour Phase Epitaxy (VPE). 114
4.7.3. Epitaksjalny wzrost cienkich warstw z fazy ciekłej – Liquid Phase Epitaxy (LPE)  116
4.8. Technologie jonowe . 117

5. Zagrożenia dla człowieka i środowiska wynikające ze stosowania nanomateriałów . 123

Literatura . 129

142 strony, B5, oprawa miękka

Po otrzymaniu zamówienia poinformujemy,
czy wybrany tytuł polskojęzyczny lub anglojęzyczny jest aktualnie na półce księgarni.

 
Wszelkie prawa zastrzeżone PROPRESS sp. z o.o. 2012-2022