FIZYKOCHEMICZNE PODSTAWY OTRZYMYWANIA POWŁOK Z FAZY GAZOWEJ MICHALSKI A.J. Księgarnia

Fizykochemiczne podstawy otrzymywania powłok z fazy gazowej

Książka zawiera niezbędne wiadomości niezbędne do zrozumienia zjawisk występujących w procesie krystalizacji powłok z fazy gazowej pod obniżonym ciśnieniem.

Omówiono w niej termodynamiczną i atomowo-statystyczną teorię zarodkowania powłok.

Szczególną uwagę poświęcono metodom nakładania powłok z fazy gazowej z udziałem plazmy, powstającej w różnych rodzajach wyładowań elektrycznych.

PRZEDMOWA
SPIS OZNACZEŃ

Rozdział 1. PODSTAWY KINETYCZNEJ TEORII GAZÓW
   1.1. Prędkość cząsteczek gazu
    1.2. Ciśnienie gazu
    1.3. Średnia droga swobodna
Rozdział 2. OTRZYMYWANIE PRÓŻNI
Rozdział 3. KRYSTALIZACJA POWŁOK Z FAZY GAZOWEJ
    3.1. Termodynamiczna teoria zarodkowania
    3.2. Statystyczno-atomowa teoria zarodkowania
    3.3. Wzrost powłoki
Rozdział 4. TERMICZNE NAPAROWYWANIE PRÓŻNIOWE
    4.1. Parowanie
    4.2. Źródła par
    4.3. Zastosowanie termicznego naparowywania próżniowego
    4.4. Mikrostruktura powłok naparowywanych próżniowo
Rozdział 5. CHEMICZNE OSADZANIE POWŁOK Z FAZY GAZOWEJ
    5.1. Podstawowe zjawiska w procesie chemicznego osadzania powłok z fazy gazowej
    5.2. Reakcje chemiczne w procesach chemicznego osadzania powłok z fazy gazowej
    5.3. Termodynamika procesów chemicznego osadzania powłok z fazy gazowej
    5.4. Nakładanie powłok metodą chemicznego osadzania z fazy gazowej
Rozdział 6. PLAZMA
    6.1. Kwazineutralność plazmy
    6.2. Elementarne procesy w plazmie
    6.3. Temperatura plazmy
Rozdział 7. OTRZYMYWANIE PLAZMY W ELEKTRYCZNYCH WYŁADOWANIACH W GAZIE
    7.1. Przebicie gazu
    7.2. Wyładowanie jarzeniowe prądu stałego
    7.3. Wyładowanie łukowe pod obniżonym ciśnieniem
    7.4. Wyładowanie jarzeniowe częstotliwości radiowej
    7.5. Wyładowanie mikrofalowe
    7.6. Silnoprądowe wyładowanie impulsowe
Rozdział 8. ROLA PLAZMY W PROCESIE OSADZANIA POWŁOK
    8.1. Reakcje chemiczne w plazmie
    8.2. Oddziaływanie jonów z podłożem
    8.3. Krystalizacja z fazy gazowej z udziałem plazmy
    8.4. Mikrostruktura powłok osadzanych z fazy gazowej z udziałem plazmy
Rozdział 9. FIZYCZNE OSADZANIE POWŁOK Z FAZY GAZOWEJ Z UDZIAŁEM PLAZMY
    9.1. Pokrywanie jonowe
    9.2. Parowanie z wykorzystaniem silnoprądowych wyładowań elektrycznych
    9.3. Rozpylanie jonowe
    9.4. Chemiczne nakładanie powłok z fazy gazowej z udziałem plazmy

BIBLIOGRAFIA
SKOROWIDZ

154 strony, oprawa twarda

Po otrzymaniu zamówienia poinformujemy,
czy wybrany tytuł polskojęzyczny lub anglojęzyczny jest aktualnie na półce księgarni.